掩膜材料相关论文
本文简要地评述了感光挠性阻焊油墨的特点和应用,同时对我国阻焊墨的发展过程及应用工艺进行了详细地阐述.......
TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一.研究了剥离工艺(lift-off)用于TiNi薄膜图形化的可行性,并首次利用溅......
谐振式压力传感器利用谐振器的频率作为输出，具有半数字化、稳定性好、抗干扰能力强等优点，因而广泛地应用在工业控制、航空航天等对......
超分辨近场结构(Super-RENS)是近场光学存储中最具有潜力和应用前景的方案之一。介绍了Super-RENS从基本类型到第三代Super-RENS的......
多孔硅作为一种牺牲层材料,在表面硅微机械加工技术中有着重要的应用.文中综合讨论了三种不同的多孔硅牺牲层技术,并用后两种"在低......
根据Rohm＆Haas电子材料和道康宁达成的新合作协议，双方将致力于亚65纳米节点闪存、DRAM和逻辑集成电路器件旋涂硅硬掩膜抗反射涂层新......
<正> 光成像抗蚀抗电镀油墨简称湿膜,是世界上80年代末的新产品,我国于1992年开始研制,现已经批量生产。随着电子工业和装饰业的迅......
超分辨近场结构（Super—RENS）光盘存储技术是近年研究的热点，而用作超分辨近场结构的掩膜材料是决定其性能的关键。本文总结了用于近......
