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利用微机械加工技术研制了微型磁通门元件，摸索了光敏聚酰亚胺的光刻条件和亚胺化条件以及多层金属选择性腐蚀的问题，并通过蒸镀和掩膜电铸两种途径制备了线圈芯，研究了不同电铸工艺参数（镀液中CFe<2+>/CNi<2+>比、电流密度、pH值）对NiFe镀层成份的影响，获得较为理想的成份比，并利用振动样品磁强计测得它们的磁滞回线。