宽禁带半导体MgxZn1-xO薄膜的研究报道

来源 :2006北京国际材料周暨中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jiajiadedaan1
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本文旨在介绍宽禁带半导体MgxZn1-xO薄膜的基本性质,制备方法及应用前景.MgxZn1-xO薄膜结合了ZnO和MgO的材料性能,具备禁带宽度连续可调的优势,近年来已经成为人们普遍关注的半导体光电功能材料与器件之一.此外,本文还简要介绍了本实验室关于ZnO薄膜的研究进展,以此作为进一步研究MgxZn1-xO薄膜的理论依据,并且也为紫外光探测器的制备打下了良好的基础.
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