热处理对真空电弧沉积TiO2-xNx薄膜结构及可见光催化活性的影响

来源 :2006北京国际材料周暨中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ebeggar
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本文对采用真空电弧沉积法所制备的TiO2-xNx光催化剂,在空气气氛中进行了热处理,以XRD分析TiO2-xNx薄膜的晶相结构随热处理温度及时间的变化情况,同时用UV-vis分光光度计分析TiO2-xNx薄膜的UV-vis光谱随热处理温度的变化规律.以酸性品红的光催化降解反应评价TiO2-xNx薄膜可见光催化剂活性,分析了热处理作用条件下,TiO2-xNx可见光催化活性的变化规律.研究结果表明,随热处理温度的升高,吸收边缘向长波方向移动.在500℃热处理条件下,TiO2-xNx薄膜的晶相结构为锐钛矿相,TiO2-xNx薄膜具有较好的可见光催化活性.
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采用螺旋波等离子体化学气相沉积技术(HWP-CVD)以SiH4、CH4和H2为反应气体在Si(100)和康宁玻璃衬底进行了纳米SiC薄膜沉积.傅立叶红外光谱显示,吸收谱中800cm-1附近Si-C吸收峰谱线线型中洛伦兹成分随偏压增加呈现先增加后减小的趋势,2100cm-1和2900cm-1处对应的Si-H、C-H吸收的谱线吸收强度随偏压的增加而发生变化,而其峰位向高波数方向移动;晶态薄膜的X射线分
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