沉积膜相关论文
试验证明,利用非热平衡态的直流等离子体,可使 TiN 的化学气相沉积温度山普通 CVD 的1000℃左右降到500℃左右,膜的硬度达2000kg/m......
低温等离子体,实质上是以低气压放电产生的部分电离的气体.在这体系中,存在着离子、激发态原子或分子以及高能电子、紫外线等不同......
目前电子显微镜已在材料学科的一些领域得到了广泛的应用。但是电镜试样制备是比较复杂的。使用电镜进行高分子材料的结构与性
A......
浙江大学高纯硅及硅烷实验室,始建于1959年。国家教委于1985年批准为重点实验室,1987年11月通过国家级验收。该实验室由阙端麟教授......
本文以化学键的观点,解释了金刚石的(C-C,SP~3键)的许多性质。主要由C-C、SP~3键构成的碳膜定义为金刚石状碳薄膜(DLC)。DLC膜的特......
引言合成金刚石膜有许多种工艺,如碳靶的离子束喷溅法,烃类用氢稀释的射频或微波等离子体CVD法以及烃类的热钨丝CVD法。世界上正......
浙江大学高纯硅及硅烷实验室,始建于一九五九年,一九八五年被国家教委批准为重点实验室,一九八七年十一月通过国家级验收。实验室......
最近,非晶态材料研究又获新的进展,发现二元金属多层沉积膜经低温退火处理后即可形成非晶态。这一进展在非晶材料理论研究和应用......
用ＸｅＣｌ紫外与ＣＯ２红外复合激光化学气相沉积方法，在３４０℃硅衬底上沉积成高纯金刚石膜。
High-purity diamond films were deposited on Si sub......
介绍了一种利用激光化学气相沉积（LCVD）技术，在平面石英玻璃衬底上沉积平凸形Si3N4球面介质膜用作微透镜，包括LCVD的实验装置及其沉积......
光刻有机金浆是以金的树脂酸盐为主，配以有关的贵、贱金属的树脂酸盐等制成。这种浆料分散性好，纯度高，烧制成的金膜薄而致密，覆盖率高......
在简单盐溶液中添加络合剂——柠檬酸，电共沉积ＧａｘＡｌ１－ｘＡｓ三元化合物。用能谱分析仪进行成分分析，获得化学计量比接近Ｇａ０．７Ａｌ０．３Ａｓ的三元化合物半导体材料。......
以ＮａＢＨ４为还原剂用化学沉积方法成功制备了钴硼合金功能膜。通过大量试验，优化出一种沉积速率较快的镀液配方与工艺。采用ＸＲＤ、ＴＥＭ等仪器对沉积......
利用微波等离子体方法在硅微尖阵列上生长了金刚石膜，并利用SEM和X射线衍射对金刚石膜进行了研究．
Diamond films were grown on si......
在Al2O3陶瓷基片上以Mo（CO）6为源采用低压冷壁式设备和金属有机气相沉积（MOCVD）方法制备Mo2C薄膜，探讨了该薄膜结构受温度、压力和沉积......
详细分析讨论了用三源真空蒸发法制取CuInSe2薄膜过程中，源温、衬底温度及Cu，In原子比值对薄膜性能的影响。
The effects of source......
根据日本科学技术振兴事业团的细野透明电子活性计划 ,采用陶瓷材料的透明的金属氧化物研制成紫外线发光二极管。二极管采用具有半......
在钛合金表面沉积类金刚石膜能改进钛合金的生物相容性,拓展其在人体植入材料中的应用。探讨了用液相电解沉积法在钛合金表面制备......
利用交流脉冲微弧氧化电源在NaF、NaCl和NaI三种电解液中对AZ31镁合金样品进行处理,采用SEM、XPD和XPS观察分析溶质离子对镁合金样......
不同ｐＨ紫膜（Ｐｕｒｐｌｅ ｍｅｍｂｒａｎｅ，简称 ＰＭ）悬浮液（ｐＨ＝ ４～１１）分别和正电性的 聚氯化二甲基二丙烯铵（ｐｏｌｙ（ｄｉｍｅｔｈｙｌｄｉａｌｌｙｌａｍｍｏｎｉｕ ｃｈｌｏｒｉｄｅ），简称 ＰＤＡＣ）溶液均可 采用交替静电吸附沉积方法形成一系列多层复合膜．运用......
新近我们试验成功了一种复型碳膜的制取方法,并对其在表面复型样品制备中的应用作了探索、研究,取得了一定的结果.因这一方法是基......
我们采用真空蒸发和分子电镀两种方法研制~(169)Yb低能内转换电子源。1.真空蒸发方法在SF-3型石英微量天平监控下,利用真空蒸发方......
离子镀是一种表面处理新技术。通过对材料和工艺的调整,可以在各种底材上获得性能优异的减摩、耐磨和抗腐蚀的镀层。离子镀制得的......
本文通过透射电子显微镜,扫描电子显微镜研究了聚甲基丙烯酸胆甾接枝共聚物室温结晶态的微细结构,及胆甾侧链含量对结晶的影响。
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本工作按常规方法将工业纯钛(TA2)、α-钛合金(TA7)和α+β两相钛合金(TC4)制成金相试样后,在其表面进行成膜试验。所成的膜在光的......
离子镀是应用于膜沉积工艺的一个常用术语。在该工艺中,基材表面和/或沉积膜受到高能粒子流的作用,足以导致在界面区域或膜与未经......
为保证微波集成电路(以下简称MIC)的长期稳定可靠,根据我们的工艺实践和体会,对影响MIC稳定可靠的宏观、微观缺陷及化学污染隐患进......
本文分析了阴极电弧等离子沉积技术，以及有关的机理和应用。与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较。特别强调了重要的技术......
介绍金属材料表面改性新技术,即离子束轰击技术与传统的和一些其它沉积制膜方法相结合的新式制膜工艺,及其典型设备和装置,并总结......
本文介绍了中空阴极放电物理气相沉积法(简称HCD法)用于高速钢刀具表面镀氮化钛薄膜的工艺过程及主要参数,以及镀氮化钛薄膜刀具的......
本室开展的气相沉积工作主要是真空气相沉积,也就是真空镀膜。这方面工作大致可分为两类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)......
在不同的铁基合金GH140、1Cr18Ni9Ti、A3基材上采用电子束原子束结合技术进行了NiCoCrAlY膜的沉积,并进行了1000℃、10 h的等温氧......
采用辉光放电等离子体聚合方法 ,以 C2 H4 和 NH3 为单体 ,在 Nafion TM膜表面沉积一层含氨基及酰氨基的类聚乙烯阴离子交换膜 ,提......
材料表面经离子束辅助轰击下低能碳离子注入工艺处理后 ,形成由碳注入层和类金刚石碳薄膜涂层组成的改性层 ,其中注入层深度比 DIM......
用大功率(kW级)CO_2激光在金属基材上通过化学气相沉积获得α-Si_3N_4膜。膜层多为细小的Si_3N_4颗粒组成,与基材有良好的结合,具......
为向国庆三十周年献礼,79年9月21日至22日,在营口市科委主持下,召开了RCA型精密低阻沉积膜电阻器鉴定会。参加单位有营口市经委、......
研究了ＹＣｌ３ＬｉＣｌＯ４ＤＭＳＯ（ 二甲基亚砜） 体系电导率与温度的关系， 及钇在Ｐｔ 和Ｃｕ 电极上的电化学行为。结果表明， Ｙ３ ＋ 在Ｐｔ 和Ｃｕ 电极上可一步不可逆还原为Ｙ， 在......
纳米科学与技术(简称纳米科技)是在纳米(1nm=10~(-9m)尺度上(0.1nm到100nm之间)研究物质(包括原子、分子)的特殊和相互作用,以及......
随着纳米科学和技术的迅速发展,特别是在微型机械、微型电机以及高速磁记录技术领域的迅速发展,迫切需要解决纳米量级的润滑和零磨......
梯度功能材料是一种在空间上从一种功能连续变化为另一种功能的整体材料，它从耐热材料到半导体材料、光学材料、生物体材料所涉及的......
