曝光设备相关论文
分析研究了首层光刻工艺层内图形位置偏差的影响因素,深入剖析了误差源的影响方式和控制手段,拓宽了补偿和降低图形位置偏差的思路......
文章简单介绍了密度片制造选用的感光材料、曝光设备和底板制造，重点介绍了复印工艺，包括曝光、显影、停显与定影、水洗和晾干、计量......
随着芯片特征尺寸的减小,光刻成像技术的不断提高,而关键尺寸(CDs)的缩小则产生了更为精确的套刻精度.这些套刻精度在已随着工作台......
1 曝光设备rn当前,在半导体器件生产中,用于65 nm制程的器件已进入量产,而用于45 nm制程也已成熟,即将进入量产期.......
最近,VLSI研究机构对2000年半导体设备市场进行了分析.在圆片fab设备方面,最大市场是淀积设备,约为104亿美元.该类设备生产厂家中,......
Fujifilm日前宣布，面对业界大型半导体厂家开始量产45nm生产工艺产品，公司将导人液浸ArF曝光设备，以进一步加大开发力度，扩大业界最尖......
日经BP社2006年6月29日报道日本京都大学利用MEMS技术，开发成功了一种可使用直径1．2m的小型加速器进行X线放射的元件。先使加速后的......
近几年来液态感光抗蚀抗电镀油墨不仅应用于电路板行业，而且广泛应用于标牌、面板、模具制作等许多领域。详细阐述了光源和曝光设备......
最近,佳能集团发布了2016年第一季度财报。财报显示,2016年第一季度佳能集团营业额为7 972.30亿日元。其中包括网络摄像机、半导体......
富林特集团创新的曝光技术——nyloprint NExT己被全球认可，这项技术帮助客户在制作柔性版方面显示出种种优势，显著地提升了印刷品质......
提高一代IC载板结合力处理的非蚀刻粘合促进剂；“PDMT”直接电镀工艺；采用液晶聚合物纤维制作薄膜印刷用丝网；高密度板铜导体结合力提......
1.引言 由于互连技术领域近年来的高速发展,对PCB技术及其生产工艺提出了越来越多的要求。原材料在PCB工业中的影响也越来越重要。......
自动光学修复印制板的AOR系统；罗门哈斯公司推出新一代电镀液；用化学镀镍／钯／金改善无铅焊接可靠性；印制板生产用高分辨率快速曝光设备；......
在过去的几年中人们已经有几次预言由于受到物理限制单个晶片的尺寸不可能再缩小,但实际上芯片的尺寸还一直在缩小中.国际半导体技......
概述了用于45nm节点的各种光刻技术发展现状及技术路线，结合国际半导体技术发展指南（ITRS）和各公司最新宣布的研究成果，探讨了各种光刻......
45nm,技术突破的关键人物,台积电资深处长林本坚（Dr.Burn Lin）这回会怎么面对20nm的挑战？2010Semicon Taiwan开展前,台积电资深处长林......
据悉，公司将推出其最新的Lux In—the—Plate（英文缩写ItP）技术。LUX ItP是一种感光树脂版技术，不需要采用特殊的曝光设备、冲版设备或......
３００ｍｍ片子步进机的流片率ＮＩＫＯＮ公司第一设计部ＩＣ＆ＬＣＤ设备分部ＨｉｄｅｍｉＫａｗａｉ１前言就在１９９３年年底时，半导体产业界还很难决定继２００ｍｍ片子之后，下一代片子的主角究竟是由３００ｍｍ片子承担......
PLUS3FAST是Mac DermidAutotype推出的一款超快速曝光的单液型蓝色感光胶。对溶剂型油墨和UV油墨都有很好的耐受性，该款感光胶不但......
介绍了LCD器件类型和生产线概况及器件市场与发展现状 ,根据LCD器件对曝光设备的工艺特点 ,重点介绍了几种用于LCD制造的曝光设备 ......
Ｄｅｌｔａ技术：满足未来需求的新型ＲＩＰ系统Ｅ．弗里梅尔著金杨译众所周知，在ＰｏｓｔｓｃｒｉｐｔＲＩＰ领域存在硬件ＲＩＰ和软件ＲＩＰ两种。其优劣各不相同。为将硬／软件ＲＩＰ的优势集于一身，Ｌｉｎｏｔｙｐｅ－Ｈｅｌｌ公司......
节能曝光设备──ＺＹ型自吸式涡轮充氧机一、前言在污水好氧生物处理过程中都需要充氧，目前一般多用鼓风机曝气，鼓风曝气噪音大，设备繁杂......
