光刻材料相关论文
随着摩尔定律的不断推进,193 nm 光刻多重图案技术已达到其分辨率的极限。科研工作者以及工业界不断找寻着10 nm 以下,甚至 5 nm ......
与传统基于石油原料的光刻材料相比,基于天然高分子的可再生光刻材料不仅保留了高分辨率的光刻性能,还具有绿色可再生和无毒显影等......
用离子注入、溅射二氧化硅、光刻等平面工艺制作全密封γ探测器。这种探测器既具有金硅面垒型探测器的优点，又具有扩散型探测器的稳......
罗门哈斯电子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials）是为半导体行业提供高级光刻材料的领先企业。该公司与TBM公司签署了联......
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员......
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为实现45纳米光刻技术．浸没式光刻几乎是近年来被业界最频繁提及的光键词了．随着浸没式光刻应用于在45nm技术尘埃落定后．同时也可能延......
美国半导体工业协会(SIA)日前称,目前半导体技术的发展变化已超出了几年前的预测。 SIA的发言人Jeft Weir指出,该组织1994年的预测......
报导一种新型全息记录材料（ＤＣ─ＴＡＣ）的光化学刻蚀特性，给出了刻蚀深度对曝光量以及对显影时间的依赖关系，还讨论了刻蚀过程中图形传递的失真......
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITH^TM 12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人......
