利用磁控溅射系统在玻璃衬底上制备出具有玻璃∕铝∕非晶硅的多层膜结构样品,然后在管式退火炉中以一定的温度退火,使非晶硅晶化形......

通过扫描电子显微镜、X射线衍射仪和喇曼谱仪检测铝诱导非晶硅薄膜的场致固相晶化的情况,分析了电场方向对铝诱导非晶硅薄膜固相晶......

在镀铝(0.5～4μm)的玻璃基底上用射频辉光放电化学气相沉积法沉积1～4μm厚的α-Si薄膜(基底沉积温度为300C,沉积速率为1.0μm/h),然......

采用玻璃／氢化非晶硅（a—Si：H）以吕结构，在低温（≤350℃）下，应用铝诱导晶化法（AIC），形成了纳米硅（nc-Si）．利用X射线衍射（XRD）光谱、拉曼（Raman）光谱和......

非晶硅晶化的检测仪器有很多，主要有扫描电子显微镜、X射线衍射仪和喇曼谱仪．采用上述检测仪器检测铝诱导非晶硅样品的场致晶化，讨论......