等离子辅助沉积相关论文
展示真实的工艺结论,介绍在基片本身或监控片上进行光学直接监控的方法应用于大面积(最大基片盘直径1400 mm)镀膜的成功经验。直......
实验上研究He在金属中的行为时,常用He离子注入的方法获得含He样品,然而常规He注入的方法存在注入损伤和He分布局域化、不均匀等问......
研究HfO2/SiO2高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀HfO2、反应离子辅助......
等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术 ,本文报道了等离子辅助源的性能指标 ,用这个源制造的Ti O2 膜工艺与成......
研究了采用等离子辅助技术制备窄带滤光片的工艺.介绍了等离子辅助蒸镀系统的基本工作原理,描述了优化膜厚均匀性的过程.在有色玻......
等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量控制光学膜的技术，报道了我们研制的等离子辅助源的性能指标，用这个源制造的ＴｉＯ２膜工艺与成膜质......
采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺，并施加霍尔离子源辅助沉积，在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利......
等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术，本文报道了等离子辅助源的性能指标，用这个源制造的ＴｉＯ２膜工艺与成膜质量，以及......
展示真实的工艺结论，介绍在基片本身或监控片上进行光学直接监控的方法应用于大面积（最大基片盘直径牵1400mm）镀膜的成功经验。直接监......
大规模生产高质量薄膜产品是今后镀膜设备需要解决的问题。等离子体或离子辅助镀膜现在被广泛应用于高质量膜系生产中并取得了良好......
反应烧结碳化硅(RB-SiC)是一种性能良好的反射镜镜胚材料,但其固有的一些缺陷导致未经特殊处理无法获得光滑的光学表面。使用X射线......
电子束物理气相沉积是真空蒸发技术的一种,具有蒸发速率高和无污染的特点,目前广泛应用于材料表面涂层的制备。将离子束辅助和等离......
