【摘 要】
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研究HfO2/SiO2高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀金属Hf的源材料形成HfO2薄膜.采用这三
【机 构】
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中国科学院上海光机所上海201800
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研究HfO2/SiO2高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀金属Hf的源材料形成HfO2薄膜.采用这三种工艺制备了HfO2/SiO2高反射膜,在中心波长1064nm处,反射率R≥99.5%,其中反应蒸镀HfO2/SiO2高反射膜损伤阈值最高,可达60J/cm2(1064nm,5ns).
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