直流磁控相关论文
在做完底电极的玻璃上,在氩气和氧气的混合气氛中用钽靶直流磁控反应溅射沉积五氧化二钽.用XPS分析了膜的杂质、Ta和O的摩尔比和结......
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电源是镀膜质量提高的关键控制因素之一，通过改变放电模式提高沉积速率是可行的，提出一种新型高离化率、高沉积速率磁控溅射技术，沉积......
采用柱状靶多弧磁控溅射系统制备了氮化铜薄膜,利用XRD和SEM分析了薄膜的相结构和表面形貌,并采用真空热处理研究了氮化铜的热稳定......
本文用直流磁控溅射法在CrNi3Mo炮钢基体上分别镀覆铬、钽及铌薄膜，并对不同沉积参数下的膜层表面形貌、结构及硬度、摩擦磨损性......
本论文研究了可用于超高密度垂直磁记录介质的NdFeB薄膜。由于四方Nd2Fe14B相的高单轴磁晶各向异性能(107erg/cm3)，可以允许把......
本文研究了经直流磁控溅射制备的TiN/GaAs肖特基结的电学特性.给出了不同退火温度下I-V,C-V测量结果及TiN/GaAs与Au/GaAs,Ti/GaAs,......
