超高密度垂直磁记录用NdFeB薄膜的研究

来源 :兰州大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wlc198812
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  本论文研究了可用于超高密度垂直磁记录介质的NdFeB薄膜。由于四方Nd2Fe14B相的高单轴磁晶各向异性能(107erg/cm3),可以允许把晶粒尺寸降低到几个纳米左右,同时保持足够的热稳定性,从而可以获得更小的记录信息单元,以实现更高的记录密度。   本论文实验上获得的最佳NdFeB薄膜的成分结构为W(5nm)/Nd158Fe662B120Cu10Al50(15nm)/W(60nm),其性能参数为:Md≈710emu/cm3,S⊥≈1,A∥≈0.1,Hc⊥=4.8kOe,Hc∥=0.7kOe,<D>=22nm,Ra=2.5nm,α=2.8。可见该薄膜非常具有作为下一代超高密度垂直磁记录介质的潜力。   
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