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光学光刻中的邻近效应杰严重降低光刻图形的质量，是妨碍大规模集成电路高集成度发展的一个重要原因，光学邻近校正已成为亚微米光刻掩......
多阶相位器件是一类具有极高衍射效率的光学元件,主要应用于光互连、光通信、平面光学、折衍混合光学等方面.本文采用电子束直写曝......
从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手，研究利用电子束直写曝光的方法，在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模，得到掩......
介绍了一种制作折射型微透镜列阵的新方法，其主要思想参考了灰阶掩模法。所用掩模板用激光直写制作，通过一次曝光即可在光刻胶上形成......
