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离子注入机ⅦSta平台对≤130mm尺寸CMOS工艺在整个能量和剂理范围提供单片注入。这些注入机的特征是硬件和设计原理通用，并包含离子束注入角控制、剂量到定和终端站设计。这种方法对重更剂量范围能使工艺可完全互换，并对引起制造所有权成本(COO)降低提供了最大的灵活性。一个完整工艺的透彻性需要剂量形貌特征精确匹配，并很好地说明这一能力、晕圈效应、VT和延展注入。此外，也证实了ⅦSta平台的单片设计消除了缺陷来源，确保了无风险工艺互换。