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利用等离子体辅助电弧沉积技术制备了不同成分的TiAlSiN多元薄膜，并研究了Si含量对薄膜组织结构、显微硬度和耐磨性的影响。XRD物相分析表明：薄膜主要由AlN和TiN组成。随着膜层中Si含量的增加，薄膜的结构由明显的柱状晶转变为致密的玻璃态结构，显微硬度逐渐提高，耐磨性能得到明显改善。
Si含量对电弧沉积TiAlSiN薄膜性能的影响
【摘 要】
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利用等离子体辅助电弧沉积技术制备了不同成分的TiAlSiN多元薄膜，并研究了Si含量对薄膜组织结构、显微硬度和耐磨性的影响。XRD物相分析表明：薄膜主要由AlN和TiN组成。随着膜层
【机 构】
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广东工业大学材料与能源学院
【出 处】
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电镀与涂饰
【发表日期】
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2006年6期
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