【摘 要】
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设计了一套多弧结合非平衡中频磁控溅射装置，磁控靶采用内外孪生对靶，并设计成矩形靶，在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了Ti-Si-N纳米复合涂层，系统研究了衬底偏压和Si靶溅射电流对
【出 处】
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2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议
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设计了一套多弧结合非平衡中频磁控溅射装置，磁控靶采用内外孪生对靶，并设计成矩形靶，在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了Ti-Si-N纳米复合涂层，系统研究了衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层的影响，在偏压150V、Si靶电流15A的优化条件下，得到了Si含量为6.3at％Ti-Si-N涂层，其结构为纳米TiN颗粒镶嵌于非晶Si3N4基体，涂层的显微硬度达到40GPa。
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