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综述了制备ULSI低介电常数材料的各种CVD技术。详细介绍PCVD技术淀积含氟氧化硅薄膜、含氟无定型碳膜与聚酰亚胺类薄膜的工艺，简要介绍了APCVD技术淀积聚对二甲苯类有机薄膜及RTCVD技术淀积SiOF薄膜的工艺。
ULSI低介电常数材料制备中的CVD技术
【摘 要】
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综述了制备ULSI低介电常数材料的各种CVD技术。详细介绍PCVD技术淀积含氟氧化硅薄膜、含氟无定型碳膜与聚酰亚胺类薄膜的工艺，简要介绍了APCVD技术淀积聚对二甲苯类有机薄膜及
【机 构】
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复旦大学电子工程系,台湾集成电路公司
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2001年1期
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