离子束辅助沉积制备TiO2—Nb2OT氧敏薄膜

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：buyaodiua1

【摘要】

：

采用离子束辅助沉积方法在Ａｌ２Ｏ３陶瓷衬底上制备了ＴｉＯ２－Ｎｂ２Ｏ５的氧敏薄膜。考察了薄膜组分比及退火温度对薄膜氧敏特性和结果的影响。电阻－氧分压特性测试结果表明，纯Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性优于纯ＴｉＯ２薄膜；掺

【作者】

：

牟海川朱建中

【机构】

：

中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室,中国科学院上海冶金研究所传感技术国家重点实验室

【出处】

：

功能材料与器件学报

【发表日期】

：

1997年1期

【关键词】

：

氧化物半导体氧敏薄膜薄膜离子束辅助沉积 Metaloxide semiconductor oxygen sensitivity ion beam assi

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采用离子束辅助沉积方法在Ａｌ２Ｏ３陶瓷衬底上制备了ＴｉＯ２－Ｎｂ２Ｏ５的氧敏薄膜。考察了薄膜组分比及退火温度对薄膜氧敏特性和结果的影响。电阻－氧分压特性测试结果表明，纯Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性优于纯ＴｉＯ２薄膜；掺入少量的Ｔｉ可使Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性提高，以５ｍｏｌ％ＴｉＯ２掺杂的Ｎｂ２Ｏ５薄膜最佳；

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