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该论文采用射频磁控溅射方法成功地制备了连续Fe50Ni50(Co)/SiO2多层膜系列和不连续Co(Fe25Ni75)/SiO2多层膜系列.利用X射线光电子谱(XPS)、X射线能量色散谱(EDX)、中角X射线衍射(MXRD)、小角X射线衍射(SXRD)、透射电镜和电子衍射(TEM和ED)、振动样品磁强计(VSM)、超导量子干涉磁强计(SQUID)、四端电阻法等手段,系统地研究了连续Fe50Ni50(Co)/SiO2多层膜的微结构和层间耦合现象以及不连续Co(Fe25Ni75)/SiO2多层膜的微结构、电性、磁性、隧道磁电阻效应,