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纳米薄膜独特的力学、光学、电磁学特性,使其在工程领域内被广泛应用。常用的纳米薄膜制备方法,无论是物理或化学气相沉积法还是电沉积法,都需要以原子级超光滑表面为衬底,且衬底表面特性对薄膜质量有重要影响。因此,提高衬底表面质量对纳米薄膜制备的研究具有重要意义。面向薄膜生长的衬底表面要求,本文提出了一种液动压悬浮抛光新方法,并在此基础上搭建了完善的液动压悬浮抛光平台,进行了相应研究。主要研究工作如下:(1)设计并搭建了液动压悬浮抛光平台,主要包括驱动、升降、检测和主轴四大系统的主要零部件选型和设计校核。利用Ansys Workbench对平台进行计算模态分析,得到各阶固有频率;对抛光盘进行谐响应分析,得到轴向位移、速度、加速度响应。结果显示一阶固有频率对轴向响应影响最大,但它避开了激振频率,故抛光平台工作可靠;(2)利用锤击法对平台进行试验模态分析,通过PolyMAX模态参数识别法获得平台的固有频率,其结果与仿真所得相接近,进一步验证了仿真模型的准确性和抛光平台的可靠性;(3)设计三因素三水平正交实验,利用Kistler六维传感器研究抛光盘转速、加工间隙、抛光液浓度对上浮力的影响,对实验结果进行极差分析和方差分析,得出对上浮力影响显著性大小依次为抛光盘转速,加工间隙,抛光液浓度;(4)以电解铜为加工对象,使用Nano-MAX研抛机制备前期试样,利用搭建的液动压悬浮抛光平台制备超光滑表面试样,并通过Wyko、SEM、TEM等表征铜试样,结果表明液动压悬浮抛光较传统机械抛光可获得表面粗糙度更小、表面形貌及晶格完整性更好的超光滑表面。本文研究借助仿真与实验、试样制备与表征,初步证明了液动压悬浮抛光平台的可靠性和抛光方法的可行性。