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离子轰击能量对不同材料沉积ta-c薄膜结合强度的影响研究
离子轰击能量对不同材料沉积ta-c薄膜结合强度的影响研究
来源 :2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bao302
【摘 要】
:
本文对过滤阴极真空电弧沉积ta-c薄膜的前处理工艺中,采用高能量离子轰击基体表面对薄膜结合强度的作用进行了实验研究.
【作 者】
:
赵玉清
林毅
【机 构】
:
西安交通大学电信学院
【出 处】
:
2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
离子轰击
轰击能量
材料
薄膜结合强度
真空电弧沉积
前处理工艺
实验研究
体表面
高能量
阴极
过滤
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本文对过滤阴极真空电弧沉积ta-c薄膜的前处理工艺中,采用高能量离子轰击基体表面对薄膜结合强度的作用进行了实验研究.
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