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会议论文
Mosaic拼接衬底同质外延生长大尺寸单晶金刚石工艺及性能表征
Mosaic拼接衬底同质外延生长大尺寸单晶金刚石工艺及性能表征
来源 :第17届全国晶体生长与材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuanxu52051
【摘 要】
:
单晶金刚石是具有代表性的第三代宽禁带半导体材料之一,具有大的禁带宽度(5.5eV),最高的热导率及极高的载流子迁移率.但是目前HPHT单晶金刚石尺寸小(5~8mm),无法和GaN和SiC等
【作 者】
:
舒国阳
代兵
朱嘉琦
高鸽
王杨
刘康
王强
韩杰才
【机 构】
:
哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所
【出 处】
:
第17届全国晶体生长与材料学术会议
【发表日期】
:
2015年期
【关键词】
:
拼接
衬底
同质外延生长
大尺寸
单晶金刚石
工艺
宽禁带半导体材料
载流子迁移率
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单晶金刚石是具有代表性的第三代宽禁带半导体材料之一,具有大的禁带宽度(5.5eV),最高的热导率及极高的载流子迁移率.但是目前HPHT单晶金刚石尺寸小(5~8mm),无法和GaN和SiC等半导体的尺寸相比(~50mm),限制单晶金刚石在半导体器件领域的应用.
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底
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