抛光粉相关论文
建立了稀土抛光粉废粉中稀土总量的分析方法。通过不同的实验,选择合适的溶样酸及溶样试剂量,并考察硅量、铁和铝对测定的影响。通......
磁流变抛光液中双相颗粒的聚集分散行为关系到其流变性能及微观去除过程,本文通过对磁流变抛光液流变性能和微观结构的研究,分析了......
磷（P）是一种不可再生的资源。随着开采量的增加,磷矿资源将在100年内枯竭,此外,大量磷随农业和城市废水排入自然水体,引起水体的富营......
采用盐酸浸出工艺回收废抛光粉中稀土,研究了添加H2SO4、HF、H2O2和还原剂A等对稀土浸出率的影响。结果表明,H2SO4的加入会抑制稀......
随着科学技术的飞速发展,稀土的应用逐渐由传统市场转向高技术市场,并被广泛应用于高科技材料领域,单一高纯稀土已成为高新材料的......
铈基抛光粉是最广泛使用的抛光粉。它具有良好的晶形,粒度小而均匀,化学活性高,抛光效率高,用量少且寿命长,抛光工件合格率高,易清......
随着5G万物互联的时代的来临,对电子仪器和信息显示产品的需求越来越多,同时对材料表面的光泽度提出了更高的要求,对抛光粉的需求......
以抛蚀率作为评价抛光粉性能的指标。详细考察了铈基抛光粉的浆料浓度、抛光时间、抛光粉的灼烧温度、抛光体系的温度对ZF6型光学......
随机选择29例牙周炎患者,经龈上洁治后牙面上仍留有色素或烟斑的牙面。选在同一口腔内左右两侧同名牙面上色素量接近,分别在一侧用......
利用碳酸氢铵做沉淀剂制备氧化铈抛光粉，通过L16（4^4）正交试验，研究了温度、硝酸铈浓度、滴加速度和搅拌速度对氧化铈粒度和比表面积的......
论述了水热条件下水的特性、体系的反应动力学及制备超细粉体的各种水热法．利用水热合成法可以制备大多数技术领域的材料和晶体，且制......
2012年由于稀土价格飞涨，形成“脱稀土化”局面，日本同内稀土州量18800～25350吨（以REO计，下同），比2011年减少5％．世界经济减速、制造业进一步......
由于加工超光滑表面的古典法对加工者的经验要求较高，而且不同的加工者对抛光时间长短的控制也有较大的差别，因而下盘时机的准确判断......
比利时索尔维集团旗下稀土技术应用事业部携系列面向精密光学行业的专业产品和技术亮相9月2-5日于深圳举行的2014中国国际光电博览......
<正>一、人造石在安装、养护护中存在问题(一)有机人造石存在问题1、大量空鼓:由于其吸水性差,与安装中使用的粘结剂亲和性差,常常......
<正> 北京稀土研究所葛文培当前,稀土生产中的控制分析,一般均以稀土氧化物的浓度或含量呈报结果。为使上述结果更好的配合生产,使......
5G通信是2018年科技界最受关注的领域之一,从小米宣布2019年3月发布5G手机,到华为计划在2019年6月5G手机上市和中兴计划2019年9月5......
片状氧化铝由于其独特的片状结构,在珠光颜料、化妆品、填料及抛光粉等领域得到了广泛的应用.本文采用熔盐法制备了片状氧化铝粉体......
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包头稀土研究院与包头天骄清美稀土抛光粉有限公司合作开发的氧化铈新型半导体抛光液研究项目,在双方共同努力下,近日签订了科研项......
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研究了从稀土抛光粉废料中回收稀土,考察了稀土抛光粉预处理方式、焙烧产物粒度、氢氧化钠用量、焙烧温度和焙烧时间对稀土的盐酸......
系统地研究了焙烧温度、焙烧时间和碳酸钠的加入量对氟碳铈矿精矿焙烧分解的影响及浸出时间、浸出温度、盐酸浓度和盐酸用量对三价......
1 前言化学机械抛光(CMP)是广泛使用的硅晶片平整技术,它已成为制造0.35(m高级电路或薄于0.25mm半导体器件的主流方法.......
稀土抛光粉在使用时通常调制成抛光浆料,对抛光浆料在使用过程中的抛光性能及沉降性进行了研究.认为分散剂、纤维素醚、碱土金属碳......
研究了高铈稀土抛光粉的制备方法,并讨论分析了制备过程中,湿式粉碎时间、烧成条件和添加剂等因素的影响作用。......
磷酸盐钕玻璃、熔石英和BK7是3类用于激光惯性约束聚变(ICF)装置主要光学元件材料。实验中采用不同平均粒径的氧化铈抛光粉对上述3......
通过测定高铈抛光粉(以下简称抛光粉)悬浮液的ξ电位、吸光度和粘度,探讨了不同pH值、分散剂种类及浓度对抛光粉水相体系分散稳定......
以碳酸铈为原料制备了无氟铈基稀土抛光粉实验样品,并采用激光粒度仪、X射线衍射仪和透射电子显微镜等分析了无氟铈基稀土抛光粉制......
以氟碳铈矿焙砂盐酸二步浸取的氯化铈溶液为原料，用碳酸氢铵作沉淀剂。沉淀经过滤、洗涤、烘干、焙烧及研磨制得用于抛光的CeO2。讨......
影响玻璃抛光的因素是极为复杂的。为避免玻璃抛光中存在的盲目性,提高生产效率,必须抓住影响玻璃抛光的主要因素,即正确掌握不同......
<正> 玻璃在抛光过程中要产生磨擦热,因此在抛光盘和玻璃的接触面之间会温度上升。这个问题贝尔布（Beilby）早已进行过研究,麦克莱（Mac......
随着科学技术的发展,对光学零件的表面粗糙度和表面的面形精度提出了越来越高的要求。并且,随着科学技术的进一步发展,超光滑表面......
研究了抛光粉的种类、抛光速度的大小以及抛光玻璃的性质等抛光参量对光学元件亚表层特征的影响,并结合抛光机理进行了分析。......
<正> 石墨具有六方晶系的结晶格子,并具有层状分布的碳原子。原子层间的距离很大(3.39),结合能力较微弱,故层与层之间很易脱离,......
本文在氯化铈体系中采用碳沉氟化的方法制备了纯铈高性能稀土抛光粉.制备的抛光粉中值粒径(D50)为500nm左右,粉体经过0.5﹪(质量分数......
