感应耦合等离子体刻蚀相关论文
为避免深硅刻蚀工艺所引起的扇贝纹效应，同时减少其工艺气体所带来的温室效应，本文将新一代环保电子刻蚀气C4F6引入硅刻蚀工艺，采用刻......
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钽酸锂（LiTaO3）和铌酸锂（LiNbO3）拥有出色的各项性能,例如热释电、光电、压电等,从而具有很大的科研价值和广泛的应用空间。人们对于由......
在氧化物限制型垂直腔面发射激光器制备中,刻蚀GaAs/AlGaAs时因异质型材料常出现选择性内蚀现象,这会直接影响后续的氧化工艺及电......
反应离子刻蚀和感应耦合等离子体刻蚀是硅基聚合物波导常用的制备工艺。本文以脊形波导为研究对象，利用扫描电子显微镜和原子力......
本文通过大量的实验,摸索到了一种采用感应耦合等离子体刻蚀(inductivelycoupledplasma,ICP)的工艺条件实现SiC材料腐蚀,腐蚀后样......
二元光学元件不仅是制造微光机电系统的关键元器件,而且是制造小型光电子系统的关键元器件。它不仅具有尺寸小、性价比高等优点,并......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
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本文对计算全息图元件的设计和制作成算法和软件,研究了采用高速电子束直写系统制作大面积、非周期性复杂光刻图形技术,在此工作的......
本文对计算全息图元件的设计和制作关键技术进行了研究,自行开发了计算全息图元件光刻图形计算机生成算法和软件,研究了采用高速电......
GaAs/AlGaAs多层膜的陡直度较大程度地关系到其实际应用效果,但在实际加工中较难控制,因此有必要研究刻蚀过程中一些主要因素对其......
全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材......
自1970年,元件制造首先采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术后,至今30多年,它的发展与集成电路和光电子器件发展密不可分,很大程度......
对碲镉汞材料干法刻蚀损伤进行研究,采用感应耦合等离子体干法刻蚀技术、湿法腐蚀方法完成碲镉汞接触孔刻蚀,通过扫描电子显微镜和......
Tegal获得了来自某MEMS传感器量产制造商的订单，订购Tegal DRIE3200多模块族群设备。该Tegal DRIE3200设备于2009年第二季度发货，利......
对碲镉汞材料干法刻蚀损伤进行研究,采用感应耦合等离子体干法刻蚀技术、湿法腐蚀方法完成碲镉汞接触孔刻蚀,通过扫描电子显微镜和......
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玻璃通孔(TGV)技术被认为是下一代三维集成的关键技术,该技术的核心为深孔形成工艺。感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术是半导体领域......
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感应耦合等离子体（ICP）刻蚀是宽禁带半导体材料4H-SiC加工工艺中的重要环节。采用CF4/O2作为刻蚀气体，首次用正交实验的方法系统研究......
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简单介绍了ICP刻蚀系统和刻蚀原理.通过实验分析了ICP刻蚀SiO2和Cr时,刻蚀速率随相关工艺参数变化而变化的几点规律.同时给出了用I......
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研究了用Cl2／BCl3，刻蚀GaN基LED中，工艺参数对GaN刻蚀速率、刻蚀侧壁和GaN与SiO2刻蚀选择比的影响。研究结果表明，刻蚀速率随着ICP功率......
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选用SF6/O2混合气体对等离子体增强化学气相淀积（PECVD）法制备的碳化硅（Si C）薄膜进行了浅槽刻蚀,并通过正交试验设计方法,研究了感应......
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相比传统的有机发光二极管(OLED),量子点发光二极管(QLED)在可见光区荧光光谱连续可调、亮度高、寿命长等优势广泛应用于照明和显......
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硫化锌(ZnS)是一种重要的宽带隙化合物半导体,具有独特的光电性能,是理想的红外窗口和头罩材料,因此利用ZnS材料制备光学元器件有......
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运用Cl2/N2等离子体系统,系统研究了ICP刻蚀中ICP功率、RF功率、反应室压力和Cl2百分比对p型GaN材料的物理表面形貌和欧姆接触特性......
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近年来光通信与光计算技术正在飞速发展,光作为一种新兴的信息载体,控制光传输的技术显得越来越重要,低功耗、高速可调制、尺寸小......
感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术是微机电系统器件加工中的关键技术之一。利用英国STS公司STS Multiplex刻蚀机,研究了ICP刻蚀中极......
随着宽带城域网(BMAN)的大力建设,DWDM(密集波分复用)技术的广泛使用,光通讯领域的重要应用前景和巨大的市场潜力变得清晰,具有对......
亚波长结构光学器件因其优越的光学特性，在空间探测、消费电子等多个领域有着广泛的应用。基于玻璃衬底的亚波长抗反射结构具有高损......
超结构光栅由于具有梳状反射谱特性被广泛用于密集波分复用（DWDM）系统的器件中，如基于超结构光栅制作的多通道滤波器、色散补偿器、复......
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随着因特网（internet）的迅速普及和发展，以及三网融合的要求，传统的电信网络已经难以满足人们对高速通信的要求，而具有速度快、高带宽、......
在本论文中，通过对侧表面粗糙化和倾斜侧面的实验研究和理论研究，提高氮化镓基发光二极管的侧面光出射效率。同时也计算了氮化镓基发......
感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术是目前国际制备InSb台面结型焦平面阵列技术的主流技术之一。文章研究采用ICP刻蚀技术,以CH4/H2/Ar......
