采用共溅射法在ITo/玻璃基片上沉积CdTe掺Nd薄膜,并利用XRD和阻抗测试研究薄膜的结构和电导性能.结果表明,适当Nd掺入可以改善CdTe......

采用共溅射方法制备了Cu-In合金膜,并讨论了Cu-In合金膜的结构、电学性能以及溅射时间对Cu-In合金膜的结构及电学性能的影响.结果......

Ａｌ原子含量约为５０％的Ｔａ／Ａｌ合金薄膜具有优良的电阻性能。使用直流共溅射的方法制作这种薄膜，靶极采用了Ａｌ面积为４５％的Ｔａ／Ａｌ复合靶研究了工艺参数如溅射气......

我们采用与现有工业生产相兼容的磁控溅射工艺,利用三靶磁控共溅射的方式制得了非晶AZTO（Al-Zn-SnO）薄膜,薄膜在波长550 nm处的透过......

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为提高在高温条件下选择性吸收涂层的性能，采用金属粒子注入介质基体中形成的金属陶瓷作吸收材料，制成金属陶瓷复合薄膜，它具有优良的......