DLC膜相关论文
本文采用磁控溅射法，在316不锈钢上制备Cr/WC/DLC多层梯度过渡类金刚石碳薄膜，利用场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、纳米压痕仪、......
微成形技术具有低成本、适合批量制造等优点，在微纳制造领域有着广阔的应用前景，随着构件尺寸的减小，其比表面积迅速增大，摩擦对成形的......
用双离子束溅射法在50℃以下的玻璃基片上淀积了类金刚石碳(DLC)膜.研究了轰击离子能量、轰击离子束流密度及轰击源内氢/氩流量比......
采用离子束溅射与离子束辅助沉积技术在医用Ti6Al4V舍金表面制备了双层类金刚石薄膜。分别用原子力显微镜、扫描电子显微镜、Raman......
为了提高打桩机用GCr15钢的摩擦学性能,采用磁控溅射在其表面制备了一层掺Cr的DLC膜,对比了该膜层处于不同工况下的微观组织和摩擦......
Reflective and transmissive film interference colors were calculated for DLC films on the Si and SiO 2 substrates.The ca......
没有氢的像钻石的碳(DLC ) 薄电影在低温度被扔(不到 100...
通过磁控溅射复合沉积方法在钛合金基体上制备了不同表面能和粗糙度的薄膜。主要研究了元素掺杂的DLC薄膜和具有仿生表面形貌的Cu......
用双离子束溅射淀积法,在轰击源含不同 CH_4流量比的条件下,于玻璃和 Si 基片上淀积了DLC 薄膜。用多种手段对所制备的膜进行了结......
利用珀尔帖效应,采用三夹层技术测量了类金刚石碳(DLC)膜的热传导率,并指出在高离子轰击能量和低CH_4气压下。通过rf等离子体沉积......
采用石墨靶 ,通过脉冲激光沉积技术在温度为 2 0℃的玻璃和硅衬底上沉积出厚度为 10 0nm的碳薄膜 ,所用的激光源是ArF激光 (λ =19......
采用RF-PECVD与磁控溅射复合技术制备了MoSx掺杂的DLC(a-C:H:Mo:S)薄膜,并对其组成、表面形貌、纳米硬度及热稳定性进行了分析.在Q......
用等离子体基脉冲偏压技术制备了ＤＬＣ（ 类金刚石碳） 膜，ＤＬＣ 膜硬度值达３０ＧＰａ， 电阻值达１００ＭΩ以上．降低脉冲负偏压峰值及适量引入氢气可促进ＳＰ３ 结构的形成，......
采用射频化学气相法沉积了氮、硅共掺杂类金刚石碳膜(N-Si-DLC).用X射线光电子能谱仪、拉曼光谱仪、表面形貌仪及扫描电子显微镜等......
采用等离子体基离子注入沉积技术以乙炔和氢气为气源,在造币模具钢表面制备了类金刚石碳(DLC)膜。采用划痕试验研究了在不同工艺参......
由于全球变暖、气候异常等环境问题，在热泵、空调和制冷系统中需寻找新的、环保的制冷工质，CO2作为自然制冷工质在热泵系统中受......
针对类金刚石膜存在的内应力大、热稳定性差等缺点,提出了相应的解决方法,并通过反应磁控溅射技术制备了掺杂Ti、Zr金属元素的DLC......
利用脉冲真空电弧离子镀技术在Ti-Ni合金上镀制类金刚石(Diamond-likecarbon,简称DLC)膜的研究在国内尚属首次,从查阅的有关的国外......
该文用脉冲辉光放电方法,通过改变工艺参数,包括沉积时间、气氛、气压、和辉光放电电压等参数,沉积了不同的类金刚石碳(Diamind-li......
本文采用实验室自制的射频等离子体化学气相沉积(RF PECVD)设备在ITO玻璃基片上制备超薄类金刚石(DLC)膜。实验将沉积时间控制在1m......
该文针对人工机械心脏瓣膜材料1Cr18Ni9Ti锈钢与类金刚石(DLC)涂层附着强度差的问题,为了制备有良好血液相容性和耐磨性的新型DLC/......
采用离子束沉积技术在医用Ti6Al4V合金表面制备类金刚石薄膜(DLC),利用原子力显微镜、Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)及UMT-2摩......
在一台УВНИПА 1型双激发源等离子弧薄膜沉积装置上制取TiN Ti DLC、及其含有软金属Cu或PTFE覆盖膜的多层复合涂层。摩擦磨损......
非平衡磁控溅射(U BM S)技术近年来得到了广泛地应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文利用正交实验......
类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。......
采用直流磁控溅射技术,在n-Si(100)衬底上制备了Cox C100-x(x=2.5～50,at%)颗粒膜,并对薄膜的结构、形貌、磁性能和巨磁电阻(GMR)效......
利用分子动力学模拟方法,从原子尺度上研究了类金刚石(DLC)薄膜生长过程.按照运动特点把入射原子在表面的行为分为表面冷冻、迁移......
采用石墨靶,通过脉冲激光沉积技术在温度为20℃的玻璃和硅衬底上沉积出厚度为100nm的碳薄膜,所用的激光源是ArF激光(λ＝193nm, 24ns......
采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了类金刚石(DLC)膜.用光学显微镜、椭偏仪、Raman光谱......
利用分子动力学模拟方法研究了2—3nm厚的类金刚石(DLC)薄膜在金刚石基体(100)表面上的生长过程.分析了用来表征沉积后无定型碳膜......
在一台УВНИПА-1型双激发源等离子弧薄膜沉积装置上制取TiN-Ti-DLC、及其含有软金属Cu或PTFE覆盖膜的多层复合涂层.摩擦磨损......
采用等离子体基离子注入技术在30CrMnSi钢上制备了TiNx/DLC多层膜,通过X射线光电子谱和激光喇曼光谱测试分析了膜的结构特征,TiNx/......
本文介绍了一种可用于化工设备表面防腐的新材料－－类金刚石薄膜（ＤＬＣ膜）。文咄了ＤＬＣ膜的制备方法及主要工艺参数，我们做了有ＤＬＣ膜保护的防腐试验，结......
重载作用下,类金刚石（DLC）薄膜直接应用于铝合金等软金属基体上易发生脆性破裂和剥离而导致过早失效。针对这一问题,以PEO陶瓷层作为......
主要针对类金刚石膜存在的内应力大、热稳定性差等缺点,通过反应磁控溅射技术制备了掺杂Ti,Zr金属元素的DLC薄膜,将掺杂Ti,Zr金属......
在高速钢基体上分别进行了制备类金刚石（DLC）膜和浸硫氮化两种表面处理,并以铸铁为对偶件,用MM200磨损试验机比较了经两种不同表面处......
用114keV的C<sup>+</sup>束,在2×10<sup>16</sup>ions/cm<sup>2</sup>和1×10<sup>17</sup>ions/cm<sup>2</sup>两种剂量......
在8～12μm红外范围内Ge基底上设计和制备的一面宽带减反膜和一面介质＋DLC膜。薄膜材料Ge、ZnS和YF3由电子束沉积法制得，DLC膜由PEVCD......
摘要：降低锗基底上镀DLC膜单面反射率，对提高光学系统的成像质量有很大的好处。本文就降低锗基底上镀DLC膜单面反射率做出研究和探讨......
在锗窗口上沉积类金刚石（DLC）薄膜的过程中，发现镀膜后锗窗口的面形一般都会产生显著变化，这为此类元件的面形控制带来不确定性，因此有......
类金刚石膜中的金属粒子可缓解类金刚石薄膜中由于制备态产生大内应力而导致的膜厚受限这一矛盾，能显著改变薄膜各种性能．述评了金属......
类金刚石是一种新型材料,制备应用这种材料已成为国内外研究的热门课题。本文作者结合自己多年的研究工作,就这种材料的制备及其特......
采用真空磁过滤等离子电弧沉积的方法在9Cr18钢上沉积不同厚度的DLC膜.为了检测成膜质量,在较宽的载荷范围内分别使用显微硬度、纳......
在一台УВНИПА-1型双激发源等离子弧薄膜沉积装置上制取TiN-Ti-DLC、及其含有软金属Cu或PTFE覆盖膜的多层复合涂层.摩擦磨损......
