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石墨烯作为一种碳原子所组成的二维蜂窝状结构晶体，具有诸多优异的特性，从而倍受全世界科学工作者的关注。在碳化硅衬底上外延生......
太阳能不产生有毒、有害气体和废渣，随处可得，使用方便、安全，成本低廉，且可以再生。随着世界范围的能源短缺和人们环保意识的增强，最近......
中微半导体设备（Advanced Micro-Fabfication Equipment．AMEC）12月正式发布了两款新产品：蚀刻装置“PrimoD—R1E”和CVD装置“Primo HP......
本发明公开了一种纳米硅薄膜，其采用等离子化学汽相沉积法，在PECVD设备中生长制备，产品的晶粒大小为d=（2—6）纳米，晶态体积百分比Xc=（53&#......
将提供一种激光CVD设备，该设备能够加强由激光CVD形成的膜与基底的膜的形成面之间的粘连，并且防止膜本身的破裂。该设备包括：等离子预......
东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECHS1500D等离子体沉积系统。S1500D等离子沉积系统是ICP—PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx，S......
中微半导体设备公司获得了《EuroAsia Semiconductor》杂志颁发的“IC Industry Awards Winner 2008”中的“年度新秀公司奖（Start......
化学汽相淀积（ＣＶＤ）设备的使用与维修王焕杰，张克云，陈振昌（复旦大学．上海．２００４３３）自８０年代初开始，化学汽相淀积（简称ＣＶＤ）工艺及其专用设备，在我国半导体器件制......
沈阳科仪“IC成膜PECVD设备研发和产业化”项目近日通过验收，PECVD部总经理姜谦表示，沈阳科仪将以高品质的PECVD设备服务客户。......
瑞士Ionbond公司在减摩与低磨擦涂层技术方面处于国际领先地位。该公司在全球设有38个涂层服务中心和设备销售代理商,其中在中国设......
钨具有高密度（19.3 g/cm3）、适中声速（4.03 km/s）以及良好的延展性等特点,被研究学者广泛视为极具发展前景的药型罩材料。本课题组前期......
中国科学院宁波材料技术与工程研究所以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标，在化学气相沉积（CVD）单晶金刚石合成方面取得了突......
中国科学院宁波材料技术与工程研究所“功能碳素材料团队”以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标，最近在CVD（Chemical—Vapor......
由于高效气冷空心叶片内腔的结构越来越复杂,采用物理气相沉积(PVD)和等离子喷涂(PS)技术不能进行空心叶片内腔冷却通道的涂层防护......
