薄膜成分相关论文
金属硒化物具有独特的光学、电学特性,在薄膜太阳电池、热电器件等领域具有良好的应用前景。在各种制备方法中,电化学沉积法因其工......
采用微波等离子体化学气相沉积法，Ｎ_２／ＣＨ_４作反应气体，在 Ｓｉ（１００）基体上沉积β－Ｃ_３Ｎ_４ 化合物．使用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）研究了基体温度对碳氮薄膜的成分和结构......
在衬底上溅射沉积一层金属钒膜,然后对其退火制备氧化钒薄膜。研究了原位退火热处理和后续退火热处理对氧化钒薄膜成分及其热敏性......
采用磁控溅射法在PCBN刀具的前刀面上镀制NiCr和NiSi薄膜，形成一种新型的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀具。详细阐述了薄膜热电偶的制......
用Bulat 6型电弧离子镀设备在高速钢表面沉积合成(Ti,Cr)N硬质薄膜,通过改变分离靶弧电流的配置来调节薄膜成分,制取了x=0.62～0.83......
Fe-Ga合金超磁致伸缩薄膜（GMF）具有比TerfenolD薄膜和块体Fe-Ga舍金更加优越的性能，因此，对Fe-GaGMF的研究已日益受到A-4fl的重视。综......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
在常用的薄膜制备方法中，溅射沉积技术是重要的制备技术之一。该技术虽然应用广泛，但是目前制备出的电子薄膜还存在一些问题需要解决......
采用热壁低压化学气相沉积（LPCVD）技术,在Si（100）衬底上成功制备出了具有化学计量的氢化非晶碳化硅（a-Si1-xCx∶H）薄膜,并用傅里叶变换红......
根据Ni-Mn-Ga合金靶材在磁控溅射过程中各元素溅射产额和靶材成分的不同,对薄膜成分的影响进行了分析,从而制备了马氏体转变温度高......
采用射频磁控溅射镀膜技术在P型Si（100）基片上沉积Ni-Mn-Ga薄膜。实验结果表明,射频溅射功率对Ni-Mn-Ga薄膜成分与形貌有显著地影响......
