衬底温度对a-Si1-xCx：H薄膜成分的影响

来源 :鲁东大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：xinguan701

【摘要】

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采用热壁低压化学气相沉积（LPCVD）技术,在Si（100）衬底上成功制备出了具有化学计量的氢化非晶碳化硅（a-Si1-xCx∶H）薄膜,并用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱仪对薄膜成分进

【作者】

：

田帅简红彬

【机构】

：

天津电子信息职业技术学院,天津三美电机有限公司

【出处】

：

鲁东大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2011年3期

【关键词】

：

热壁LPCVD a-Si1-xCx∶H薄膜衬底温度薄膜成分 low pressure chemical vapor deposition（LPCVD） hy

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采用热壁低压化学气相沉积（LPCVD）技术,在Si（100）衬底上成功制备出了具有化学计量的氢化非晶碳化硅（a-Si1-xCx∶H）薄膜,并用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱仪对薄膜成分进行了分析,探讨了衬底温度对a-Si1-xCx∶H薄膜成分的影响,结果发现随着衬底温度升高,CH4分解效率得到提高,过量的C形成了C-C键.

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