提出了利用随机分布电阻薄膜贴片构成的频率选择表面。讨论了表面占有率、分布形式以及表面电阻对其吸波性能的影响。HFSS仿真结果......

本文通过“铁磁(FM1)/薄反铁磁/铁磁(FM2)/反铁磁”的四层薄膜结构，系统地研究了被常用的反铁磁材料FeMn和IrMn薄层所分隔开的两个N......

本文通过对溅射过程中各种条件的选择介绍了如何制备高精度的CrSi2电阻薄膜的方法.同时简要的介绍了电阻网络的设计方法.......

本文以Cr-Si为靶材,采用高频磁控溅射工艺,试制出一种方阻为2kΩ/□的电阻薄膜,其TCR可优于±20ppm/℃,已应用在产品中,取得了较好......

...

该文介绍了一种采用掺氮直流磁控反应溅射薄膜电阻工艺，可以显著降低绝对值很大的电阻薄膜正温度系数。在单片ＩＣ中典型的５００～２０００Ω／□应用范围......

...

研究了Cr Si Al和Cr Si Al N两种薄膜的微观结构及电性能。结果表明 :溅射态非晶Cr Si Al和Cr Si Al N薄膜在加热到 70 0℃的过程......

采用磁控溅射方法在Si(100)基底上制备了Cr-Si-Ni电阻薄膜,研究了不同温度退火时薄膜微观结构的转变过程以及对电阻率的影响.结果......

采用磁控溅射方法制备了Cr-Si-Ni电阻薄膜，研究了薄膜在模拟酸性（0．1mol／LHCl）和碱性（0．1mol／LNaOH）溶液环境中的电学稳定性和长期使用可靠......

研究磁控溅射法制备的Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al电阻薄膜在模拟的碱性环境（NaOH溶液）中,介质溶液浓度和温度对薄膜电学稳定性的影响及其......

采用磁控溅射方法制备Cr-Si-Al电阻薄膜,以X射线衍射仪和透射电镜研究薄膜在不同温度退火处理后微观结构的变化,并利用四探针法测......

研究了退火态Cr-Si-Al和Cr-Si-Al-Zr薄膜的微观结构和电性能.结果表明,溅射态非晶薄膜Cr-Si-Al和Cr-Si-Al-Zr在加热到700 °C......

Precursive iron films with different grain sizes were prepared by magnetron sputtering on substrates heated at different......

Microstructure and electrical properties of La2 O3-doped ZnO-Bi2 O3 thin films prepared by sol–gel process have been in......

...

通过经典电磁学理论推导,提出一种完全吸收入射平面电磁波的电阻薄膜-介质层-全反射导体膜结构。该结构要求电阻薄膜与真空波阻抗......

电波吸收材料的动向 电波吸收材料在实际使用时必须根据其使用情况选择合适的最佳吸收频带的材料，一些典型的常用材料有①电阻薄膜......

合金成分、沉积条件以及热处理工艺是影响薄膜性能极其重要的因素,为便于电阻薄膜的合理选材,分析了应用于中阻值范围内的NiCr-O系......

研究了磁控溅射法制备的Cr-SiNi电阻薄膜在不同模拟环境介质溶液中的电学稳定性及腐蚀行为。结果表明，500℃热处理后纳米晶结构的Cr......

本文将电阻薄膜和频率选择表面相结合形成一种新型人工电磁周期性材料。该结构具有一个透波通带和两个吸波通带。在这个透波通带外......

近日，位于苏州工业园区的某国内知名企业完成了商业化热气泡式喷墨打印头产品开发。该产品打印分辨率达1200dpi，即将率先投入市场，据......

本文分析了各种热气泡式微喷技术及其发展状况,并介绍了一种顶端发射的热气泡微喷射执行器的设计,该微喷执行器主要应用于喷墨打印......

氧吸收或氧化对金属电阻膜、合金电阻膜及金属陶瓷膜的影响及作用机理差别很大.淀积不同厚度的铅锡碲合金膜暴露在氧气或大气中, ......

电阻薄膜是一种重要的电子薄膜，本文系统地论述了这种薄膜。...

随着电子及信息产业突飞猛进的发展,世界溅射靶材的需求越来越多,本文介绍了靶材的发展概况、分类和应用情况,以及靶材的特性要求.......

众所周知,现代战争已经不是某区域内敌我双方对垒的军事行动,而是全方位的信息化战争,也就是由电子侦察与反侦察,电子干扰与反干扰......

<正> 溅射方法是指将各种蒸发材料(如磁性材料、电阻材料等)加工成靶,用氩等离子体轰击,使待蒸发材料溅射到基板、衬片等表面上形......

分析论述了喷墨打印的各种技术,包括打印头和打印系统.着重对应用最为广泛的热喷墨打印技术给予较详细分析,包括打印头芯片的设计......

...