光刻过程相关论文
针对光刻过程非线性、时变和产品质量不易在线测量的特性,提出了一种基于最小二乘支持向量机预测模型和微粒群滚动优化方法的批次......
针对光刻过程非线性、时变和产品质量不能在线测量的特性,提出了一种基于最小二乘支持向量机(LS-SVM)预测模型、灰色模型估计扰动......
在现阶段深亚微米化的集成电路产业中，设计与制造已经出现日益严重的脱节，生产加工过程带来的重修正问题使得设计一生产周期大大加长......
