论文部分内容阅读
在现阶段深亚微米化的集成电路产业中，设计与制造已经出现日益严重的脱节，生产加工过程带来的重修正问题使得设计一生产周期大大加长，为了克服这个弊端，随之而来的反馈修正技术（ECO技术）应运而生。以光刻过程中光学临近矫正（OPC）技术所涉及到的反向修正技术为例，介绍了几种目前产业界所主要采用（或即将采用）的方法，并为此提出了几个目前所亟待解决的问题。