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半导体光电器件是光电子产业中最重要的组成部分，是继大规模集成电路之后，信息高技术领域中最有发展前途的产品。半导体激光器在光电......
1、简介rn项目名称:高压0.18μm先进工艺技术,rn该项目产品属于30V高工作电压的关键尺寸为0.18μm的逻辑器件.在8英寸硅片上经过32......
提出一种新的UT 1X光刻版规格:63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机.相应的光刻版......
高等院校教育工作者的主要任务,是在党的教育方针指导下,为国家培养出大量德才兼备、身体健康的合格人才,满足四个现代化及祖国社......
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统.将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,......
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本文分析讨论研制钢膜电阻温度传感器的几个关键技术和工艺,并说明光刻版的设计要与实验室的工艺条件相适应;蒸发源的纯度、镀膜室......
介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版......
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期刊
本文结合"980nm新型辐射桥结构垂直腔面发射激光器”课题,首先阐述了VCSEL的研究进展及应用情况,并对垂直腔面发射激光器结构特性......
