【摘 要】
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LED蓝宝石衬底的表面质量会极大影响到后续外延质量,进而影响到LED器件性能.蓝宝石研磨片经Al2O3磨粒粗抛液、SiO2磨粒精抛液下进行化学机械抛光（CMP）,最终表面经原子力显微镜（A
【机 构】
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清华大学摩擦学国家重点实验室,深圳清华大学研究院深圳市微纳制造重点实验室,广东省光机电一体化重点实验室,深圳市特种功能材料重点实验室深圳大学
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LED蓝宝石衬底的表面质量会极大影响到后续外延质量,进而影响到LED器件性能.蓝宝石研磨片经Al2O3磨粒粗抛液、SiO2磨粒精抛液下进行化学机械抛光（CMP）,最终表面经原子力显微镜（AFM）所测表面粗糙度达到0.101 nm,获得亚纳米级粗糙度超光滑表面,并呈现出原子台阶形貌.同时,通过使用Zygo表面形貌仪、AFM观察蓝宝石从研磨片经A12O3粗抛液、SiO2精抛液抛光后的表面变化,阐述蓝宝石表面原子台阶形貌的形成原因,提出蓝宝石原子级超光滑表面形成的CMP去除机理.通过控制蓝宝石抛光中的工艺条件,
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