用聚焦重离子溅射法制备核靶

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聚焦重离子溅射制靶的工作参数为:加速电压10kV,氩离子束流0.5—1mA,真空度1×10~(-5)托,束斑φ1—2mm,聚焦电压1—2kV。本工作测量了每消耗1mg材料所获得的靶厚度即K值。当靶衬至坩埚的距离 The working parameters of the focused ion sputtering target are as follows: accelerating voltage 10kV, argon ion beam current 0.5-1mA, degree of vacuum 1 × 10 ~ (-5) Torr, beam spot φ1-2mm, focusing voltage 1-2kV. This work measures the target thickness, ie, K value, for each 1 mg of material consumed. When the target liner to the crucible distance
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