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介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果,以及公差控制.指出技术指标已达到:数值孔径NA=0.63、工作波长λ=365nm、倍率5x、工作分辨力R≤0.35μm,设计物镜所用透镜片数最少,无胶合件,并具有暗场同轴对准和温度气压控制补偿功能.
亚半微米投影光刻物镜的研究设计
【摘 要】
：
介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果,以及公差控制.指出技术指标已达到:数值孔径NA=0.63、工作波长λ=365nm、倍率5x、工作分辨力R
【机 构】
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中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
：
2000年1期
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