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薄二氧化硅MOS电容电离辐射陷阱电荷研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：agz100

【摘 要】

：

采用高频C－V曲线方法，研究了50nm及15nmMOS电容电离辐射空穴陷阱及界面态的建立过程，二种样品电离辐射空穴陷阱电荷密度在1×10^3Gy(Si)剂量下近乎相同，而在大于3×10^3G

【作 者】

：

刘忠立 

【机 构】

：

中国科学院半导体研究所传感技术国家实验室

【出 处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2001年7期

【关键词】

：

MOS电容 电离辐射 陷阱电荷 二氧化硅 MOS capacitor ionizing radiation trapped charge 

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采用高频C－V曲线方法，研究了50nm及15nmMOS电容电离辐射空穴陷阱及界面态的建立过程，二种样品电离辐射空穴陷阱电荷密度在1×10^3Gy(Si)剂量下近乎相同，而在大于3×10^3Gy(Si)剂量下，50nm MOS电容的电荷密度约为15nm MOS电容的2倍，利用电离辐射后的隧道退火效应，计算出二种样品电离辐射陷阱电荷在Si-SO2界面附近分布的距离均约为4nm.

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