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AIN膜及其在半导体光电器件中的应用
AIN膜及其在半导体光电器件中的应用
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fencer_200
【摘 要】
:
本文报道溅射AlN膜及其应用于半导体光电器件的实验研究结果。测定了不同条件下溅射的AlN膜厚度、淀积速率、折射率和击穿电场强度。首次用AlN膜做器件的端面保护和减反射膜
【作 者】
:
郭良
朱素珍
张霞
余金中
王德煌
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所,北京大学物理系
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1990年10期
【关键词】
:
半导体
光电器件
AIN膜
氮化铝
AINSemiconductor optoelectronic devices
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本文报道溅射AlN膜及其应用于半导体光电器件的实验研究结果。测定了不同条件下溅射的AlN膜厚度、淀积速率、折射率和击穿电场强度。首次用AlN膜做器件的端面保护和减反射膜以及表面钝化膜均获得成功。几种常用介质膜的实验数据对比分析表明AlN膜在半导体光电器件领域将有广阔应用前景。
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