【摘 要】
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本文描述了用常规制版工艺制作1微米窄条铬掩模光刻版的各种工艺困难和解决方法。在此基础上采用一些改进措施,在常规制版工艺线上,用普通光学系统,能够重复地制作出比较均匀
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本文描述了用常规制版工艺制作1微米窄条铬掩模光刻版的各种工艺困难和解决方法。在此基础上采用一些改进措施,在常规制版工艺线上,用普通光学系统,能够重复地制作出比较均匀的1微米线宽的铬掩模。
This article describes various process difficulties and solutions for making 1-micron narrow-width chrome-mask lithography plates using conventional platemaking processes. On this basis, some improvement measures are adopted. In the conventional platemaking process line, a common optical system can repeatedly produce a relatively uniform chromium mask with a line width of 1 micron.
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