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采用化学镀的方法在高锰铝青铜表面制备了Ni-P镀层。通过扫描电镜、能谱分析观察分析了镀层微观形貌与成分，研究了阴极极化对镀层及表面沉积膜的影响，探讨了高锰铝青铜表面Ni-P镀层与阴极保护的相容性。结果表明，Ni-P镀层使高锰铝青铜维持-0．85V（CSE）极化所需的电流密度降低了1／2；表面沉积膜以CaCO3为主，极化电位越负，其形成的速度越快且颗粒越细小；适宜的阴极保护电位范围内，阴极极化对镀层无不良影响；高锰铝青铜表面Ni—P镀层和阴极保护具有良好的相容性。