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高线性度外延及注入GaAs Hall器件
高线性度外延及注入GaAs Hall器件
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xq111
【摘 要】
:
讨论了外延及注入制作的薄层GaAs Hall器件如何获得高的磁线性度。GaAs Hall器件的磁线性度在高磁场下会有偏离,但可以通过外延及注入的过渡层对有源区进行补偿,在合适的有源区
【作 者】
:
郑一阳
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2002年5期
【关键词】
:
Hall器件
霍尔器件
砷化镓
线性度
Hall devices
active region and transition region dist ribut
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讨论了外延及注入制作的薄层GaAs Hall器件如何获得高的磁线性度。GaAs Hall器件的磁线性度在高磁场下会有偏离,但可以通过外延及注入的过渡层对有源区进行补偿,在合适的有源区和过渡区的浓度和厚度分布中,可以得到2.5T的强磁场下,±0.04%的高磁线性度。
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