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成功开发出以劳厄干涉为基础的激光干涉光刻系统与工艺,该工艺可在大面积范围内加工二维周期性图形,非常适合于生产光电子器件和微电子器件的周期性结构。通过实验研究了使用该工艺加工表面纳米结构的流程,对比了几种光刻胶在该工艺中的性能特点。该工艺不需要掩模、昂贵的短波长光源和成像透镜。初步实验结果表明：该工艺可以生产大面积亚微米周期的光栅、点阵以及锥形结构,为激光干涉光刻加工纳米结构的后续工作奠定了基础。