【摘 要】
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论文第一章从x射线光源、x射线光学元件和x射线多层膜的发展和研究状况给出了简要的综述。 第二章讨论了理论设计和性能分析问题，将薄膜光学理论成功应用于x射线多层膜的设计中，建立完善了设计程序和多层膜性能分析方法。 论文第三章介绍了多层膜沉积的工艺，给出了本研究小组独特的转速控厚法，这种方法在制备x射线多层膜中具有十分重要的意义。讨论了利用多层膜的小角x射线衍射谱理论分析，导出了单层膜厚度
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论文第一章从x射线光源、x射线光学元件和x射线多层膜的发展和研究状况给出了简要的综述。 第二章讨论了理论设计和性能分析问题，将薄膜光学理论成功应用于x射线多层膜的设计中，建立完善了设计程序和多层膜性能分析方法。 论文第三章介绍了多层膜沉积的工艺，给出了本研究小组独特的转速控厚法，这种方法在制备x射线多层膜中具有十分重要的意义。讨论了利用多层膜的小角x射线衍射谱理论分析，导出了单层膜厚度和多层膜周期厚度的测量方法。 实
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