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对采用超高压设备在５６０～１５５０℃温度范围内烧结的Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷的制造工艺对微观结构与韧性的影响进行了研究，微观组织为层片状，形态与烧结助剂无关。在１４５０～１５５０℃范围内烧结，可获得很高的硬度与较好的韧性。
超高压烧结工艺对Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷结构及韧性的影响
【摘 要】
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对采用超高压设备在５６０～１５５０℃温度范围内烧结的Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷的制造工艺对微观结构与韧性的影响进行了研究，微观组织为层片状，形态与烧结助剂无关。在１４５０～１５５０℃范围内烧结，可获得很高的硬度与较好的韧性。
【机 构】
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大学电镜室 大学北京方大高技术陶瓷有限公司
【出 处】
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第七次全国热处理大会
【发表日期】
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1999年12期
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