纳米TiO光催化剂的应用

来源 :第五届全国微米/纳米技术学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bechametop
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
本文主要介绍纳米TiO<,2>光催化剂的催化机理及在污水处理,空气净化自动无毒化材料,抗菌等领域的应用,并指出了在该领域研究中存在的问题及发展方向等.
其他文献
微光机电系统通常采用紫外或X射线光刻技术制作,不同于一般的集成电路加工,其所用光刻胶之厚度达数十微米以上,因此有必要对用于微光机电系统加工的厚胶进行研究.在本文中,我们对一种新型厚胶——AZ PLP 100XT进行了曝光显影特性的实验研究,给出了该胶特性规律,为使用该胶加工微光学和微机械器件提供了依据,为计算模拟分析光刻加工器件的三维图样提供了保证.
给出了一个用约束刻蚀剂层技术对金属铜进行微区电化学刻蚀的电化学体系,并考查了约束剂的效果以及电流密度对被刻蚀区域显微结构的影响.结果表明,所用约束剂对扩散层有较好的约束作用;在低电流密度下刻蚀时会产生晶界优先腐蚀;一个能产生各向同性刻蚀的电流密度被确定.用AFM对孔深进行了表征.
在以微阵列为基础的生物芯片制作中,喷液点样可能将成为较普遍的采用方式.这些装置中,喷嘴是将样本液滴投递到芯片表面的必要通道.文章探索了用新近发展的软刻法在PDMS材料中加工构建喷嘴微通道阵列的工艺过程,对制作过程中的一些相关问题作了讨论.
运用原子力显微镜(AFM)对人舌鳞状细胞癌组织的超薄切片进行观察,得到了高分辨率的病理组织切片的三维拓扑图像,并选择癌巢中心特定的细胞和有特征的部位进行了亚细胞水平的研究.
简单介绍了现有的一些抛光技术,着重阐述了一种具有高度距离敏感性的抛光整平技术——约束刻蚀剂技术的原理.并利用该技术以光滑的微圆盘电极Pt作模板,对粗糙的GaAs表面进行抛光平整,获得了表面粗糙度为3.5nm的平整表面,显示了该技术作为一种平面抛光手段的潜力.
Ryanodine受体(RyR)是位于细胞内质网膜上的一种钙释放通道,由四个相同的亚基组成的寡聚蛋白,每个亚基的分子量约为550-Kda,是目前已知的最大的离子通道.RyR在内质网膜上常常形成二维晶格排列.近期的理论研究表明受体膜蛋白的这种聚集方式为细胞信号传导提供了一种新的方式.实验发现,适当比例的RyR和磷脂(含CHAPS)的混合物在云母表面孵育时,磷脂自发形成磷脂膜,RyR在磷脂的包围中形成
采用常规化学法,通过有效控制分散剂的量,制得了SnO的胶体粒子.以MALVERN zetasizer4粒度仪对其粒度和ξ电位进行了表征.结果表明,六偏磷酸钠((NaPO))、聚乙二醇(PEG)和玻璃酸钠(NaSiO)对SnO的胶体均具有一定的分散效果,使其粒度分布范围窄,胶体粒子稳定.通过此法制得了粒径约为6.5nm的胶体粒子.比较了同一掺杂剂在不同浓度下其分散效果的差异;简单地分析了酸性条件对胶
提出了一种将多孔硅牺牲层应用于制作悬浮薄膜结构的方案.采用专用容器在不同浓度的HF溶液生成了多孔硅,并对其质量进行了比较.高浓度的HF溶液中阳极氧化生成的多孔硅孔隙小、容易被碱性溶液腐蚀,适合于作牺牲层材料.采用TMAH(四甲基氢氧化铵)溶液进行释放,获得了镂空的SiO悬浮薄膜,薄膜面积可达400μm×400μm,该薄膜在制作高性能RF-MEMS器件中有重要用途.
利用惰性气体沉积法在外加电场的存在下生长了纳米晶金薄膜,并研究了外加电场对薄膜生长的影响;实验表明,外加电场改变了纳米晶金薄膜的结构及电阻率.厚度相同的薄膜其电阻率随外加电场强度的升高而增加,当电场强度大于48V/cm后,已不能得到连续的薄膜.惰性气体沉积法生长纳米晶金薄膜的这种电致效应可通过偏置渗透理论获得初步解释.
利用原子力显微镜对与帕金森相关的蛋白质α-synuclein的积聚过程进行了研究.结果表明:α-synuclein在积聚的早期阶段是以寡聚体的形式存在的.并且形成的积聚物的形态也是具有多样性的.