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新型厚胶特性的研究
微光机电系统通常采用紫外或X射线光刻技术制作,不同于一般的集成电路加工,其所用光刻胶之厚度达数十微米以上,因此有必要对用于微......
会议
厚胶
光刻
微系统
微机械电子系统
曝光显影
电化学反应中圆盘电极阵列的制备
本文提出了一种快速制备电化学反应中工作电极阵列的方法.此法利用集成电路制造工艺,将TiW-Au溅射在玻璃基片上,并通过曝光显影等......
会议
电化学反应
圆盘
集成电路制造工艺
电极阵列
酚类化合物
曝光显影
快速制备
加工工艺
电极性能
玻璃基片
氰化物
绝缘层
感光胶
直径
金属
溅射
检测
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