表面残留相关论文
受抛光过程和环境沾污的影响,InP单晶衬底表面含有过高浓度的残留硅杂质。在外延器件中,硅杂质作为浅施主会在界面处形成n型导电层......
GB/T7494-1987是测定水溶液中阴离子表面活性剂的亚甲蓝分光光度法。使用最广泛的表面活性剂是直链烷基苯磺酸钠。亚甲蓝与阴离子......
目的:建立一种简便、灵敏、快速测定餐具表面残留阴离子表面活性剂的方法。方法:对阴离子表面活性剂亚甲蓝比色法进行改进,省略pH......
