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本文的研究目标是实现在半导体蚀刻区通过自动化反馈控制系统来提高生产的自动化程度。半导体制造业是一个国家的高科技支柱产业,......
本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究，在反应离子蚀刻（ＲＩＥ）实验基础上，建立了锗材料蚀刻性能与ＲＩＥ工艺参量的关系，经过大量......
本文通过对三氟化氮特种气体理化性质、气体制备方法、纯度分析、毒性和检测、气体管理及存储、以及杂质的清除等的论述,阐明了三......
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等离子体蚀刻硅深沟道用作存贮器件的储存电容有非常重要的作用，就等离子体在微电子制造领域中蚀刻二氧化硅，多晶硅的原理和如何控制......
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