浸没液体相关论文
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径，可以将193nm光刻延伸到45nm节点以......
介绍了193nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面，对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍，对顶部涂料的......
浸没式光刻机，通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的液体，来提高光刻的分辨率。在光刻过程中，浸没流场作为光路系统的一部......
浸没光刻机通过在投影物镜与硅片之间填充浸没液(通常为纯水)来增大光学数值孔径从而减小光刻特征线宽。实现供回液和气密封的浸没......
浸没式光刻机是目前在45nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备。浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一......
