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研究了在相移掩模下利用偏振光照明的分辨力极限。结果表明利用光的偏振特性可以进一步提高光刻分辨力。......
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径，可以将193nm光刻延伸到45nm节点以......
光刻机是集成电路制造的核心设备，光刻分辨率决定了集成电路芯片的特征尺寸。通过增大光刻机投影物镜的数值孔径可提高光刻分辨率。......
